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         頂點光電子商城2024年6月6日消息：近日，全球領先的半導體制造設備供應商荷蘭ASML公司，宣布與比利時芯片研究巨頭Imec共同開設了一個測試實驗室，專注于其最新的High NA EUV光刻設備。

         實驗室斥資3.5億歐元，經過多年建設完成。核心設備包括最先進的光刻機TWINSCAN EXE:5000，這是一款專為High NA EUV設計的曝光設備。實驗室還配備了一系列配套的處理和計量工具，以支持完整的芯片制造流程。

            新High NA EUV設備可將分辨率提高60%，有望帶來更小、更快的新一代芯片。ASML預計客戶將在2025至2026年開始使用這款設備進行商業制造。

          目前，ASML已經接到了十幾個High NA EUV設備的訂單，顯示了市場對這一頂尖技術的強勁需求。

           ASML是曝光設備市場的領導者，目前只有臺積電、三星、英特爾及SK海力士能使用其當前一代的EUV設備進行生產。英特爾官方表示，很高興看到這一愿景得以實現，并共同加速下一代芯片的誕生。英特爾計劃在其14A制程工藝中使用High NA EUV設備。

          該實驗室的啟用被視為大批量生產High NA EUV設備的一個里程碑，預計將在2025至2026年間實現廣泛應用。分析人士認為，High NA EUV技術的成熟和普及將對半導體產業產生深遠影響，包括提高生產效率和降低制造成本，進一步推動半導體產業的競爭和創新。