頂點光電子商城2024年8月21日消息：東方晶源作為電子束量測檢測領域的先行者與領跑者，始終致力于自主研發(fā)和技術創(chuàng)新，不斷推動該領域的技術進步。電子束量測檢測設備是芯片制造裝備中除光刻機之外技術難度最高的設備類別之一，其性能對芯片制造的最終良率具有重要影響。而電子光學系統(tǒng)（Electron Optical System，簡稱EOS）作為電子束量測檢測設備最為核心的模塊，直接決定了設備的成像精度和質量，進而決定了設備的整體性能。
近日，東方晶源自主研發(fā)的新一代EOS取得了突破性成果，成功搭載到旗下三款重要設備中，即電子束缺陷復檢設備（DR-SEM）、關鍵尺寸量測設備（CD-SEM）和電子束缺陷檢測設備（EBI），實現了國產EOS在高端量測檢測領域的應用，為國產電子束量測檢測技術的發(fā)展奠定了堅實基礎。
DR-SEM EOS技術特點：基于超高分辨率電子束成像技術，對缺陷進行復檢分析，包括形貌分析和成分分析等。因此，其搭載的EOS需要高分辨、高速的自動化復檢能力，并提供多樣化的信號表征手段。創(chuàng)新成果：采用適配自研多通道高速探測器，支持多信號類型分析檢測的電子光學設計方案，兼容EDX成分分析功能，能夠覆蓋廣泛的缺陷復檢應用場景。同時，搭配高精度定位技術，檢測精度和速度可匹配業(yè)界主流水準。
CD-SEM EOS技術需求：作為產線量測的基準設備，對EOS的核心技術需求在于高分辨、高產能（Throughput）和高穩(wěn)定性。創(chuàng)新成果：為實現高成像分辨率和高量測精度，采用球色差優(yōu)化的物鏡、像差補償技術、自動校正技術等新方案，已達到業(yè)界一流水平。同時，自研探測器針對頻響和信噪比進行優(yōu)化，支持快速圖像采集，結合高速AFC技術，可以在不損失精度的情況下大幅提升量測產能。新的技術方案確保了更穩(wěn)定、一致的產品表現。
EBI EOS技術需求：針對國內領先的邏輯與存儲客戶產線檢測需求，在保證檢測精度的前提下，重點提升檢測速度。創(chuàng)新成果：通過四大技術手段在檢測精度和速度上進行了顯著的優(yōu)化與提升。隨著半導體工藝水平的飛速發(fā)展，電子束在線量測檢測越來越重要，設備的產能必須有質的飛躍才能滿足這一需求。東方晶源在高速成像和多電子束技術方面均取得了重要突破，實現了相關技術的原理驗證。
未來，東方晶源將繼續(xù)進行技術深耕，將關鍵核心技術牢牢掌握在自己手中，以更加卓越的技術和產品引領電子束量測檢測領域的發(fā)展。同時，公司還將積極解決客戶痛點問題，為我國集成電路產業(yè)的發(fā)展和進步貢獻更多力量。
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