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           頂點(diǎn)光電子商城2024年8月21日消息：東方晶源作為電子束量測(cè)檢測(cè)領(lǐng)域的先行者與領(lǐng)跑者，始終致力于自主研發(fā)和技術(shù)創(chuàng)新，不斷推動(dòng)該領(lǐng)域的技術(shù)進(jìn)步。電子束量測(cè)檢測(cè)設(shè)備是芯片制造裝備中除光刻機(jī)之外技術(shù)難度最高的設(shè)備類別之一，其性能對(duì)芯片制造的最終良率具有重要影響。而電子光學(xué)系統(tǒng)（Electron Optical System，簡(jiǎn)稱EOS）作為電子束量測(cè)檢測(cè)設(shè)備最為核心的模塊，直接決定了設(shè)備的成像精度和質(zhì)量，進(jìn)而決定了設(shè)備的整體性能。

          近日，東方晶源自主研發(fā)的新一代EOS取得了突破性成果，成功搭載到旗下三款重要設(shè)備中，即電子束缺陷復(fù)檢設(shè)備（DR-SEM）、關(guān)鍵尺寸量測(cè)設(shè)備（CD-SEM）和電子束缺陷檢測(cè)設(shè)備（EBI），實(shí)現(xiàn)了國(guó)產(chǎn)EOS在高端量測(cè)檢測(cè)領(lǐng)域的應(yīng)用，為國(guó)產(chǎn)電子束量測(cè)檢測(cè)技術(shù)的發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

           DR-SEM EOS技術(shù)特點(diǎn)：基于超高分辨率電子束成像技術(shù)，對(duì)缺陷進(jìn)行復(fù)檢分析，包括形貌分析和成分分析等。因此，其搭載的EOS需要高分辨、高速的自動(dòng)化復(fù)檢能力，并提供多樣化的信號(hào)表征手段。創(chuàng)新成果：采用適配自研多通道高速探測(cè)器，支持多信號(hào)類型分析檢測(cè)的電子光學(xué)設(shè)計(jì)方案，兼容EDX成分分析功能，能夠覆蓋廣泛的缺陷復(fù)檢應(yīng)用場(chǎng)景。同時(shí)，搭配高精度定位技術(shù)，檢測(cè)精度和速度可匹配業(yè)界主流水準(zhǔn)。

           CD-SEM EOS技術(shù)需求：作為產(chǎn)線量測(cè)的基準(zhǔn)設(shè)備，對(duì)EOS的核心技術(shù)需求在于高分辨、高產(chǎn)能（Throughput）和高穩(wěn)定性。創(chuàng)新成果：為實(shí)現(xiàn)高成像分辨率和高量測(cè)精度，采用球色差優(yōu)化的物鏡、像差補(bǔ)償技術(shù)、自動(dòng)校正技術(shù)等新方案，已達(dá)到業(yè)界一流水平。同時(shí)，自研探測(cè)器針對(duì)頻響和信噪比進(jìn)行優(yōu)化，支持快速圖像采集，結(jié)合高速AFC技術(shù)，可以在不損失精度的情況下大幅提升量測(cè)產(chǎn)能。新的技術(shù)方案確保了更穩(wěn)定、一致的產(chǎn)品表現(xiàn)。

           EBI EOS技術(shù)需求：針對(duì)國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的邏輯與存儲(chǔ)客戶產(chǎn)線檢測(cè)需求，在保證檢測(cè)精度的前提下，重點(diǎn)提升檢測(cè)速度。創(chuàng)新成果：通過(guò)四大技術(shù)手段在檢測(cè)精度和速度上進(jìn)行了顯著的優(yōu)化與提升。隨著半導(dǎo)體工藝水平的飛速發(fā)展，電子束在線量測(cè)檢測(cè)越來(lái)越重要，設(shè)備的產(chǎn)能必須有質(zhì)的飛躍才能滿足這一需求。東方晶源在高速成像和多電子束技術(shù)方面均取得了重要突破，實(shí)現(xiàn)了相關(guān)技術(shù)的原理驗(yàn)證。

          未來(lái)，東方晶源將繼續(xù)進(jìn)行技術(shù)深耕，將關(guān)鍵核心技術(shù)牢牢掌握在自己手中，以更加卓越的技術(shù)和產(chǎn)品引領(lǐng)電子束量測(cè)檢測(cè)領(lǐng)域的發(fā)展。同時(shí)，公司還將積極解決客戶痛點(diǎn)問(wèn)題，為我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和進(jìn)步貢獻(xiàn)更多力量。