頂點(diǎn)光電子商城2024年6月19日消息:近日,三星計(jì)劃在2027年推出多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù),這些技術(shù)包括1.4nm工藝、BSPDN背面供電以及硅光子技術(shù)。
三星預(yù)計(jì)在2027年實(shí)現(xiàn)1.4nm(納米)工藝技術(shù)的量產(chǎn)。這一技術(shù)節(jié)點(diǎn)代表著半導(dǎo)體制造工藝的進(jìn)一步微縮,有助于提高芯片的性能和能效。準(zhǔn)備工作“進(jìn)展順利,性能和良率目標(biāo)均已如期實(shí)現(xiàn)”,表明三星在材料和結(jié)構(gòu)創(chuàng)新方面取得了顯著進(jìn)展,正積極塑造未來低于1.4nm的工藝技術(shù)。

BSPDN(背部供電網(wǎng)絡(luò))技術(shù)是一種創(chuàng)新的半導(dǎo)體技術(shù),它將電源軌置于晶圓背面,以消除電源線和信號(hào)線之間的瓶頸。這種技術(shù)可以顯著提高功率、性能和面積(PPA)效率,并降低電壓降(IR降),從而提高高性能計(jì)算(HPC)設(shè)計(jì)的性能。三星計(jì)劃在2027年將BSPDN技術(shù)應(yīng)用于其1.4nm工藝中,這是該公司首次將BSPDN技術(shù)應(yīng)用于如此先進(jìn)的工藝節(jié)點(diǎn)。
新增就業(yè)崗位1200個(gè),對(duì)地方經(jīng)濟(jì)發(fā)展具有積極推動(dòng)作用。該項(xiàng)目的建成能提升國(guó)產(chǎn)化功率器件競(jìng)爭(zhēng)實(shí)力,降低對(duì)國(guó)外產(chǎn)品的依賴。
三星還計(jì)劃在2027年推出硅光子技術(shù)。硅光子技術(shù)是一種在芯片上利用光纖傳輸數(shù)據(jù)的技術(shù),相比傳統(tǒng)線纜/電路可以大幅提升I/O數(shù)據(jù)傳輸速度。這是三星首次宣布采用硅光子技術(shù),該技術(shù)的引入將進(jìn)一步增強(qiáng)三星在半導(dǎo)體領(lǐng)域的競(jìng)爭(zhēng)力。
此外,三星還計(jì)劃在2027年實(shí)現(xiàn)第四代2nm芯片的量產(chǎn),并在2025年量產(chǎn)升級(jí)版4nm硅芯片。這些計(jì)劃展示了三星在半導(dǎo)體工藝技術(shù)方面的持續(xù)投入和領(lǐng)先地位。
綜上所述,三星在2027年推出的1.4nm工藝、BSPDN背面供電及硅光子技術(shù)將進(jìn)一步提升其半導(dǎo)體產(chǎn)品的性能、能效和數(shù)據(jù)傳輸速度,鞏固其在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的領(lǐng)先地位。
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