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          頂點光電子商城2024年3月22日消息：近日，上海凱世通半導體股份有限公司發布了面向CIS的大束流離子注入機新產品。

          這款新品基于凱世通已批量驗證的iStellar通用注入平臺與光路系統，設備成熟穩定，媲美進口先進機型。凱世通通過多項技術創新，滿足了CIS對離子注入機的技術要求，具備卓越的金屬污染控制、高精度注入角度控制等特點。

            CIS市場近年來蓬勃發展，手機多攝頭配置、汽車智能駕駛、VR/AR可穿戴設備、智慧安防、機器視覺等新興應用不斷催生CIS市場的壯大。這些應用對金屬污染與注入角度有很高的要求，凱世通的這款新品離子注入機正好滿足了這些需求。

           大束流離子注入機在集成電路離子注入機市場品類中需求占比最大，不僅被應用于邏輯制程，在存儲、功率、CIS等芯片制造領域也被廣泛使用。而離子注入機與光刻機、刻蝕機是《國家集成電路產業發展推進綱要》明確要求重點發展的三種裝備，其系統復雜度極高，涉及多學科技術，開發難度僅次于光刻機，是當前我國半導體產業必不可少又亟待補齊的核心短板之一。

           未來，凱世通將繼續提升現有產品的市場競爭力，同時不斷豐富產品線，構建全系列離子注入機產品矩陣，為客戶提供更多卓越裝備。通過持續創新和技術積累，凱世通有望在離子注入機領域取得更大的突破，為推動我國半導體產業的發展做出更大貢獻。

           總的來說，凱世通發布的這款面向CIS的大束流離子注入機，無疑將為CIS市場的進一步發展提供強有力的技術支持，同時也將推動公司在離子注入機領域的持續發展。