頂點(diǎn)商城2022年1月6日消息,氮化鎵(GaN)作為第三代半導(dǎo)體材料之一,可以滿足現(xiàn)代電子技術(shù)對(duì)高頻、高壓、高溫、高輻射和高功率等條件的要求,相比硅基半導(dǎo)體,可以使電子元器件的體積縮小超過(guò)75%,功耗降低超過(guò)50%。因此,GaN廣泛應(yīng)用在光伏逆變器、通訊設(shè)備和電動(dòng)車快充等領(lǐng)域。

韓國(guó)東部高科株式會(huì)社(Dongbu HiTek Co., Ltd.,簡(jiǎn)稱東部高科)正在研究將GaN材料薄膜,沉淀在硅晶圓上制成硅基GaN,來(lái)生產(chǎn)8英寸半導(dǎo)體電子元器件。因?yàn)椴捎霉杌鵊aN技術(shù)可以簡(jiǎn)化晶圓工藝,提升器件的競(jìng)爭(zhēng)力,從而提高代工廠的盈利能力。

200mm硅晶圓襯底上制出的GaN MIS-HEMT器件
東部高科是新晉的全球十大晶圓代工廠之一,專門從事8英寸晶圓代工,主營(yíng)業(yè)務(wù)為智能機(jī)器人、人工智能和物聯(lián)網(wǎng)等工業(yè)4.0所需要的芯片,進(jìn)行晶圓代工。在2021年全球晶圓代工的價(jià)格大幅上漲的行情下,東部高科在第三季度創(chuàng)造了單季營(yíng)收新紀(jì)錄,相比上季度增幅15.6%,達(dá)到2.8億美元,成功躋身全球晶圓代工廠第十位。
硅基GaN并不是東部高科的首創(chuàng),首次將硅基GaN技術(shù)導(dǎo)入晶圓代工的是臺(tái)積電。在2020年2月,臺(tái)積電與意法半導(dǎo)體合作,采用硅基GaN技術(shù)為意法半導(dǎo)體生產(chǎn)GaN器件。臺(tái)積電已經(jīng)規(guī)劃在2022年,推動(dòng)第三代半導(dǎo)體器件進(jìn)行市場(chǎng)化。

東部高科目前也正在加緊布局第三代半導(dǎo)體,積極開發(fā)SiC和GaN等第三代半導(dǎo)體材料應(yīng)用。據(jù)之前透漏的消息,東部高科已經(jīng)開始進(jìn)行SiC和GaN生產(chǎn)設(shè)備的評(píng)估,可能會(huì)在今年進(jìn)行相關(guān)產(chǎn)線的建設(shè)。在去年11月份就有消息表示,東部高科會(huì)在今年第一季度進(jìn)行SiC和GaN功率器件的研發(fā),這也標(biāo)志著東部高科正式進(jìn)入第三代半導(dǎo)體功率市場(chǎng)。

東部高科工程師正在對(duì)晶圓進(jìn)行檢查
目前,東部高科正在研發(fā)6至8英寸SiC功率器件,計(jì)劃是在今年第一季度推出試產(chǎn)品。同時(shí),東部高科GaN基功率器件的研發(fā)也在進(jìn)行中。此次的報(bào)道也證實(shí)了東部高科正在加緊布局第三代半導(dǎo)體,打算在新的賽道上實(shí)現(xiàn)彎道超車,擴(kuò)大其全球晶圓代工的市場(chǎng)份額。
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