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鴻海與英偉達攜手推動高雄AI工廠建設

         頂點光電子商城2025年10月14日消息:近日,在2025年10月13日于美國加州圣荷西舉行的開放運算計劃全球峰會(OCP Global Summit 2025)上,鴻海科技集團宣布將與英偉達(NVIDIA)合作,在臺灣高雄推動800V HVDC電力架構的導入,打造未來的AI工廠(AI Factory)基礎設施。


         這一800V HVDC電力架構將首先在高雄的K-1專案AI資料中心實施,這一專案被視為鴻海推動AI產業升級的重要里程碑,將成為集團在AI服務器、資料中心及再生能源整合應用方面的示范基地。


          面對AI計算需求爆發式增長,傳統電力架構已難以滿足現代數據中心對效率與密度的要求。鴻海與英偉達合作引入的800V HVDC(高壓直流)電力架構,正是為解決這一瓶頸而生。這一架構將通過集中式供電,減少多重轉換步驟,顯著提高能源傳輸效率。同時,它還能減少電源供應單元的使用,簡化電力分配與使用空間,為計算硬件騰出更多寶貴空間。鴻海表示,800V HVDC架構具備模組化和可擴展特性,能夠支援英偉達未來多代繪圖處理器(GPU)平臺。這種前瞻性設計為AI工廠的長期演進奠定了堅實基礎。


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          鴻海與英偉達的合作并非首次,但此次在高雄AI工廠項目的合作深度與廣度前所未有。作為合作的核心內容,鴻海旗下的鴻佰科技在OCP全球峰會上展示了多項最新世代的AI解決方案。包括NVIDIA GB300 NVL72、NVIDIA HGXB300平臺,以及專為企業級AI應用打造的NVIDIA MGX服務器。這些展示不僅體現了鴻海與英偉達的技術協同,也彰顯了雙方在AI基礎設施領域的全面布局。鴻海在新聞稿中指出,透過與英偉達及其生態系的技術合作,鴻海不僅在K-1專案中率先導入800V HVDC架構。還將持續強化在AI服務器、電力與冷卻整合設計方面的實力,目標是打造安全、節能且可快速部署的AI資料中心解決方案。


          技術亮點方面,面對高性能GPU產生的巨大熱量,散熱成為AI工廠不可忽視的挑戰。鴻海此次展示了與800V HVDC架構相匹配的先進散熱解決方案——機柜式水冷分配單元(CDU)。水冷散熱技術能更有效地帶走GPU產生的熱量,避免因過熱導致的性能下降,從而充分釋放AI算力的潛能。800VDC直流供電在能源轉換效率方面具有顯著優勢,能夠有效減少電力損耗,降低運營成本。對于AI資料中心這類需要大規模計算和高功耗支持的場所,800VDC架構的優勢更加明顯。它不僅能夠提供更穩定的電力供應,還能簡化配電系統,提高整體的可靠性。


           鴻海選擇在高雄K-1專案率先實施800V HVDC架構,具有重要的戰略意義。這一項目將成為鴻海在AI服務器、資料中心及再生能源整合應用方面的示范基地。鴻海與英偉達的此次合作,不僅是技術層面的創新,也對整個行業產生了積極影響。隨著AI技術的不斷發展,對算力的需求將持續增長。800VDC電力架構和水冷散熱技術的應用,將為數據中心提供更高效、更可持續的解決方案,推動整個行業的技術進步。高雄項目的成功實施,將為鴻海在全球范圍內推廣AI工廠建設提供可復制的樣板。