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德州儀器發(fā)布DLP991UUV,推動無掩膜光刻技術(shù)

       頂點光電子商城2025年10月9日消息:近日,德州儀器(TI)推出其最新工業(yè)數(shù)字微鏡器件DLP991UUV,專為先進封裝和無掩膜光刻(LDI)技術(shù)打造。該設(shè)備具備4096×2176分辨率,約890萬個微鏡排列,微鏡間距僅為5.4微米,微鏡陣列對角線尺寸為0.99英寸,支持343至410納米的紫外光波段。


德州儀器發(fā)布DLP991UUV,推動無掩膜光刻技術(shù)(圖1)

       DLP991UUV通過調(diào)制入射光的幅度、方向和相位,實現(xiàn)亞微米級的圖案化精度,尤其適用于對高精度要求且需降低成本的先進封裝領(lǐng)域。其無掩膜設(shè)計可根據(jù)材料表面的實時狀態(tài)靈活調(diào)整圖案,顯著提升工藝調(diào)優(yōu)速度并消除掩膜更換帶來的時間與成本負擔(dān)。


           配合DLPC964控制器,DLP991UUV支持超高速流式數(shù)據(jù)傳輸,滿足3D打印和半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域?qū)Υ蟪叽鐦?gòu)件和超精細分辨率的需求。此外,DLP991UUV還廣泛應(yīng)用于高光譜成像、工業(yè)檢測和機器視覺,助力推動各行業(yè)的智能制造升級。