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           頂點光電子商城2025年9月19日消息：近日，盛美半導體設備（上海）股份有限公司宣布，成功推出首款高產能KrF工藝前道涂膠顯影設備Ultra Lith，并已成功交付中國一家領先的邏輯晶圓廠。該設備基于盛美成熟的ArF涂膠顯影設備平臺，融合先進的溫控技術及即時工藝監測系統，實現高效穩定的制程控制。

            Ultra Lith采用靈活的工藝模組配置，配備12個旋涂腔和12個顯影腔（12C12D），搭載54塊精準控溫熱板，支持低溫、中溫及高溫制程工藝。設備產能超過300片晶圓每小時，并集成專利申請中的背面顆粒去除模組，有效降低交叉污染風險，同時搭載晶圓級異常檢測系統，提升生產良率與穩定性。

            盛美半導體董事長王暉表示，KrF曝光技術仍是成熟制程零組件制造的核心，隨著全球半導體產能持續擴大，該類設備需求將穩步增長。盛美通過提供包含ArF與KrF工藝的全面涂膠顯影系統，致力于提升晶圓廠整體制造靈活性與效率。