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          近日，中微公司推出自主研發的12英寸低壓化學氣相沉積(LPCVD)設備Preforma Uniflex? CW。

          該設備可靈活配置多達五個雙反應臺反應腔（十個反應臺），每個反應腔可以同時加工兩片晶圓，在保證較低的生產成本和化學品消耗的同時，實現更高的生產效率。

          此外，該設備配備了完全擁有自主知識產權的優化混氣方案及加熱臺, 具有優秀的薄膜均一性、填充能力和工藝調節靈活性，對于彎曲度較大的晶圓，它也具備良好的工藝處理能力。并可以滿足先進邏輯器件、DRAM和3D NAND中接觸孔以及金屬鎢線的填充應用需求。

           中微半導體設備（上海）股份有限公司是一家以中國為基地、面向全球的微觀加工高端設備公司，為集成電路和泛半導體行業提供極具競爭力的高端設備和高品質的服務。

          中微開發的等離子體刻蝕設備和化學薄膜設備是制造各種微觀器件的關鍵設備，可加工微米級和納米級的各種器件。這些微觀器件是現代數碼產業的基礎，它們正在改變人類的生產方式和生活方式。