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三星正在加快3D DRAM研究速度 望能突破DRAM性能瓶頸

       根據(jù)外媒的報(bào)道,三星電子將加快3D DRAM的研究速度,這家半導(dǎo)體巨頭在近日,已經(jīng)開(kāi)始加強(qiáng)相關(guān)的工作環(huán)節(jié),例如招聘員工。

 

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       根據(jù)之前的報(bào)道,三星就已經(jīng)提出了一種新的增加DRAM性能的方法,傳統(tǒng)上的DRAM是將晶體管和電容器在一個(gè)平面上進(jìn)行排列,那么這就是為什么三星電子會(huì)在DRAM的前面加上3D。

 

       3D顧名思義,是一個(gè)立體的空間,他并不是局限在一個(gè)平面上的空間,而三星電子則是通過(guò)晶體管和電容器擺脫平面空間的束縛,除了利用平面空間的面積以外,還要垂直延伸,利用垂直的面積搭建晶體管。

 

       三星這種方法,被業(yè)內(nèi)稱(chēng)為“堆”,而傳統(tǒng)的方法,被稱(chēng)為“溝槽”,時(shí)至今日仍有許多半導(dǎo)體大廠依然在使用這樣的制造方法,例如:日本的東芝、美國(guó)的IBM等。

 

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       三星使用這種3D方法,是因?yàn)閭鹘y(tǒng)意義上的DRAM已經(jīng)處于一個(gè)性能的瓶頸,提高密度已經(jīng)變成了一件十分困難的事情,三星這種方法便是為了突破這種瓶頸,希望能夠再次提高DRAM的性能上限。

 

       根據(jù)業(yè)內(nèi)推斷,依照目前的情形來(lái)看,3D DRAM將會(huì)在2025年面世。


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